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提高透明薄膜質量的幾種方法
發布日期：2018-12-07
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核心提示：提高透明薄膜質量的幾種方法
利用提高鍍膜溫度的方法來提高薄膜的吸附能力。在真空鍍膜技術中可以通過將基底溫度加熱到300℃來提高MgF:膜的穩定性。眾所周知，利用TiCI。和Si(OCH3).蒸氣在加熱到200到250℃玻瑞表面上分解生成的TiO:和Si 0,薄膜具有特別高的牢固強度和化學穩定性。
薄膜熱處理具有很大的實際意義，例如，在350℃下加熱處理的薄膜強度和耐水蒸氣的破壞能力比在100-120℃下加熱的薄膜高5-8倍。加熱溫度的影響對真空被膜也是如此。例如，MgF,鍍膜后加熱到270-400℃可以大大提高其化學往定性。
獲得薄膜牢固性的主要因素之一是被鍍零件表面的清潔，通常在玻璃表面上存在某種表面層，該表面層是由于玻璃與濕空氣、清擦溶液以及在對中心磨邊過程中產生的，這種表面層具有一定的孔涼度，因此，它有可能吸附著室內經常存在的油和漆燕氣，膜層內存在這些物質會阻礙薄膜與玻璃表面的化學結合。
此外，新拋光表面在清洗上膠火漆時可能被高沸點的甲苯或其他溶荊所污染，這種高沸點溶劑不易從污染層孔晾中除掉，因而在鍍膜時會降低薄膜與鍍件的結合能力，以致形成棍濁而散射的薄膜。所以必須仔細地將玻瑞表面進行脫脂。在真空鍍膜中最為有效的方法是離子表擊，在離子轟擊過程中可以將艘件表面所吸附的水氣和其他物質釋放出來。此外，鍍件的預先加熱對清除玻瑞表面與薄膜的中間層起著決定性作用，這對不能進行離子轟擊的化學鍍膜是十分有益的。
對薄膜高溫熱處理和鍍件表面加熱以及對薄膜孔隙用各種化合物密閉的方法進行了研究并制訂了干涉膜的保護方法，該方法是將用烴氛基有機物水解所獲得的TiO:和SiO2膜在溶化的蜂蠟中處理。這個方法可以用于在氣態中或硅有機物高溫分解中所獲得的氧化膜。在工業中該法目前用于單層，雙層和三層增透膜的保護，其膜層為欽、桔、拾和硅的氧化物。
經常封閉的是硅酸乙醋乙醇溶液獲得的二氧化硅膜，該膜通常在膜系的最外一層。要取得具有成效的保護性能，就必需嚴格遵照硅酸乙醋的一定比例成分、濃度和時效時間。有人認為，采用10-12%的硅酸乙酷溶液可以得到有效的保護性能，在這種情況下所獲得的孔隙尺寸足以保證為蠟或其他氧化物分子所滲透。
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